HJT电池生产设备，制绒清洗的主要目的。1去除硅片表面的污染和损伤层；2利用KOH腐蚀液对n型硅片进行各项异性腐蚀，将Si（100）晶面腐蚀为Si（111）晶面的四方椎体结构（“金字塔结构”），即在硅片表面形成绒面，可将硅片表面反射率降低至12.5%以下，从而产生更多的光生载流子；3形成洁净硅片表面，由于HJT电池中硅片衬底表面直接为异质结界面的一部分，避免不洁净引进的缺陷和杂质而带来的结界面处载流子的复合。碱溶液浓度较低时，单晶硅的(100)与(111)晶面的腐蚀速度差别比较明显，速度的比值被称为各向异性因子(anisotropicfactorAF)；因此改变碱溶液的浓度及温度，可以有效地改变AF，使得在不同方向上的速度不同，在硅片表面形成密集分布的“金字塔”结构的减反射绒面；在制绒工序，绒面大小为主要指标，一般可通过添加剂的选择、工艺配比的变化、工艺温度及工艺时间等来进行调节控制。HJT电池的应用可以提高能源利用效率，促进可持续发展。郑州零界高效HJT金属化设备
制备种子层的主要作用为提升栅线与 TC+C68:C69O 层之间的导电性和附着力。由于 HJT 电 池电极接触透明导电薄膜（TCO 层），会存在电镀金属与 TCO 层之间吸附力较差的问 题，通常借鉴半导体行业的方案，在电镀金属与 TCO 层之间制备整面“种子层”、掩膜电 镀后去除掩膜蚀刻未电镀部分种子层来解决附着力的问题。釜川（无锡）智能科技有限公司，以半导体生产设备、太阳能电池生产设备为主要产品，打造光伏设备一体化服务。拥有强大的科研团队，凭借技术竞争力，在清洗制绒设备、PECVD设备、PVD设备、电镀铜设备等方面都有独特优势；以高效加工制造、快速终端交付的能力，为客户提供整线工艺设备的交付服务。郑州光伏HJT金属化设备零界高效HJT电池整线明显提升了太阳能电池的转换效率、良率和产能，并极大降低了生产成本。
HJT电池的“光衰”是指在长时间的使用过程中，电池的光电转换效率会逐渐降低，导致电池的发电能力下降。为了避免HJT电池的“光衰”，可以采取以下措施：1.避免过度放电：在使用HJT电池时，应避免将电池放电至过低的电量，以免损害电池的性能。2.避免过度充电：同样地，过度充电也会对电池的性能产生负面影响，因此应避免过度充电。3.避免高温环境：HJT电池在高温环境下容易受到损害，因此应尽量避免将电池暴露在高温环境中。4.定期维护：定期对HJT电池进行维护，如清洁电池表面、检查电池连接线等，可以延长电池的使用寿命。5.选择优良电池：选择优良的HJT电池，可以保证电池的性能稳定，减少“光衰”的风险。总之，避免HJT电池的“光衰”需要注意电池的使用和维护，选择优良电池也是非常重要的。
HJT异质结（Heterojunction with Intrinsic Thin-layer，HJT）电池为对称的双面结构，主要由 N 型单晶硅片衬底、正面和背面的本征/掺杂非晶硅薄膜层（包括 N 型非晶硅薄膜 n-a-Si:H、本征非晶硅薄膜 i-a-Si:H 和 P 型非晶硅薄膜 p-a-Si:H）、双面的透明导电氧化薄膜(TCO) 层和金属电极构成。其中，本征非晶硅层起到表面钝化作用，P型掺杂非晶硅层为发射层，N 型掺杂非晶硅层起到背场作用。HJT是很有潜力优势的技术，在将来HJT电池与钙钛矿技术进行复合叠层，突破转换效率30%成为可能。HJT光伏技术是一种高效、环保的太阳能转换技术。
高效HJT电池为对称的双面结构，主要由 N 型单晶硅片衬底、正面和背面的本征/掺杂非晶硅薄膜层、双面的透明导电氧化薄膜(TCO) 层和金属电极构成。其中，本征非晶硅层起到表面钝化作用，P型掺杂非晶硅层为发射层，N 型掺杂非晶硅层起到背场作用。釜川，以半导体生产设备、太阳能电池生产设备为主要产品，打造光伏设备一体化服务。HJT整线解决商， HJT装备与材料：包含制绒清洗设备、PECVD设备、PVD设备、金属化设备等。 电镀铜设备：采用金属铜完全代替银浆作为栅线电极，具备低成本、高效率等优势。釜川自主研发的“零界”高效HJT电池整线制造解决方案已实现设备国产化。四川自动化HJT吸杂设备
高效HJT电池PECVD设备是制备微晶硅的中心设备，其工艺机理复杂，影响因素众多，需要专业公司制备。郑州零界高效HJT金属化设备
HJT电池为对称的双面结构，主要由 N 型单晶硅片衬底、正面和背面的本征/掺杂非晶硅薄膜层、双面的透明导电氧化薄膜(TCO) 层和金属电极构成。其中，本征非晶硅层起到表面钝化作用，P型掺杂非晶硅层为发射层，N 型掺杂非晶硅层起到背场作用。HJT电池转换效率高，拓展潜力大，工艺简单并且降本路线清晰，契合了光伏产业发展的规律，是有潜力的下一代电池技术。HJT电池为对称的双面结构，主要由 N 型单晶硅片衬底、正面和背面的本征/掺杂非晶硅薄膜层、双面的透明导电氧化薄膜(TCO) 层和金属电极构成。其中，本征非晶硅层起到表面钝化作用，P型掺杂非晶硅层为发射层，N 型掺杂非晶硅层起到背场作用。郑州零界高效HJT金属化设备
