真空系统应用中，为达到真空装置的精确便捷控制，实现工艺流程自动转换及参数自动调节，会在真空系统中设置各种自动控制系统。真空泵厂家来说说真空装置常见的自动控制系统都有哪些。
真空系统自动控制系统
首先是继电器控制系统。在PLC控制系统未出现以前，继电器控制系统是真空装置控制的主流形式，主要由一些控制真空泵、真空泵阀门、工件旋转机构等的基本控制线路构成。目前这种控制系统在一些简单的真空系统控制中得到较多采用。
压力控制仪控制系统。在真空系统应用中，会因为真空工艺需要，可能会要求真空度保持在某一给定值上。但实际上由于真空室内的放气或者真空泵的抽速变化等原因，使得真空度偏离给定值，这时就需要通过压力控制仪来对压力进行自动调节。压力控制仪控制系统包括给定电路、调节单元、测量单元以及执行机构（真空微调阀）等。
真空控制器是否可以**使用。上海本地真空控制器诚信合作
真空控制器具有体积小巧、安装方便、性能稳定等优良品质，自动测控系统内的真空压力，输出开关信号，适用不同的流体介质。
一、真空控制器工作原理：
当系统内真空压力高于或低于设定压力时，控制器内的压力感应器立即动作，使控制器内的开关触点断开或接通，此时设备停止工作；当系统内的真空压力回到设备设定的压力范围时，控制器的压力立即复位，使控制器内的开关触点接通或断开，此时设备正常工作。
真空控制器特点：
1.精度高、调节方便、稳定性好、耐腐蚀性强
2. 可用于任何气体或液体介质
北京本地真空控制器信誉保证真空控制器在旋蒸实验的重要性？
为什么需要真空控制系统？
准确的真空度控制，提供***且可控的蒸馏过程，提高溶剂回收率，有效避免样品暴沸和低沸点目标物质的损失
梯度程序设定的真空度和转速，适用于多种溶剂的分离
全自动真空控制系统可直接控制泵的启停，降低实验室振动和噪音，有效延长真空泵的使用寿命
产品介绍：
全自动精密真空度控制—有效控制蒸发速率，避免暴沸和浓缩过程中目标物损失
全防腐管路设计—防腐性能高
自动控制真空泵的启停
真空度控制范围：2mbar～常压
真空度控制精度：±1mbar（±0.1kPa）
压力控制仪可以实现压力自动调节，也可以进行手动调节。手动调节时，压力控制仪相当于一个手动微调真空阀。而选择自动调节时，压力控制仪会构成一个闭环的自动控制系统：首先由给定单元给出目标控制值，根据具体被控对象的特性选择好PID调节单元的各项参数，如比例度、积分时间、微分时间；当真空测量单元输出的一个表征被控装置真空室压力高低的电信号时，压力调节单元将压力设定值与压力测量值进行比较，并进行差值运算；如果超出范围，就会通过驱动电路，驱动真空调节阀，改变进入真空室的气体流量，从而使真空室的压力维持在指定的真空区间。
当然实际中被控压力调节与设定压力会有一定的偏差范围，被控压力调节只能是趋近于设定，与给定压力值保持正常允许的偏差，这偏差值的大小即是压力控制仪的控制精度高低。
除此外压力控制仪在技术上还有相应的压力控制与调节范围、可控气路数量、反应时间等参数。
真空控制器的规格型号。
VC100C真空控制器操作实例
例1：蒸发乙醇：
乙醇在标准大气压下的沸点是78.2℃，当需要将乙醇沸点降低至30 ℃时，查附图二(部分溶剂饱和蒸汽压曲线图)得对应的饱和蒸汽压为11kPa，则将真空设定在11kPa。
例2：蒸发氯仿：
氯仿在标准大气压下的沸点是61.2℃，当需要将氯仿沸点降低至20℃时，查附图二得对应的饱和蒸汽压为22kPa，则将真空设定在22kPa。
注： (1) 实际使用的设定真空压力还需视现场溶剂沸腾情况对上述计算结果稍加调整（先预设高20%，再逐步调低压力），恰好的真空压力设定应以溶剂刚开始沸腾，不爆沸为宜。
(2) 真空压力的设定决定了蒸汽温度，此时如需冷凝收集，冷却水温或冷阱内温度必须持续低于蒸汽温度20℃以上，否则溶剂蒸汽将无法被有效冷凝收集而直接进入真空控制器、真空泵甚至排入大气。
真空控制器怎么调节真空度？上海本地真空控制器诚信合作
真空控制器技术原理是什么？上海本地真空控制器诚信合作
真空控制器具有体积小巧、安装方便、性能稳定等优良品质，自动测控系统内的真空压力，输出开关信号，适用不同的流体介质。
一、真空控制器工作原理：
当系统内真空压力高于或低于设定压力时，控制器内的压力感应器立即动作，使控制器内的开关触点断开或接通，此时设备停止工作；当系统内的真空压力回到设备设定的压力范围时，控制器的压力立即复位，使控制器内的开关触点接通或断开，此时设备正常工作。
二、真空控制器应用：
主要用在冶金、化工、石油、钢铁、机械、制冷设备、冷冻设备、水泵的压力控制，低水位保护压力控制、电厂、水泥、食品、船舶等行业的气体及水、油等液体压力设备和其它工业设备于执行机构配套上进行压力监控、报警、联锁保护，实现二位式自动控制。
三、真空控制器特点：
1.精度高、调节方便、稳定性好、耐腐蚀性强
2. 可用于任何气体或液体介质
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