企业商机
加工件基本参数
  • 品牌
  • 爵豪科技
  • 型号
  • 齐全
  • 产地
  • 杭州
  • 可售卖地
  • 全国
  • 是否定制
  • 配送方式
  • 物流运输
加工件企业商机

5G 基站天线的注塑加工件,需实现低介电损耗与高精度成型,采用液态硅胶(LSR)与玻璃纤维微珠复合注塑。在 LSR 原料中添加 20% 空心玻璃微珠(粒径 10μm),通过精密计量泵(计量精度 ±0.1g)注入热流道模具(温度 120℃),成型后介电常数稳定在 2.8±0.1,介质损耗 tanδ≤0.002(10GHz)。加工时运用多组分注塑技术,同步成型天线罩与金属嵌件,嵌件定位公差≤0.03mm,配合后电磁波透过率≥95%。成品在 - 40℃~85℃环境中经 1000 次热循环测试,尺寸变化率≤0.1%,且耐盐雾腐蚀(5% NaCl 溶液,1000h)后表面无粉化,满足户外基站的长期稳定运行需求。注塑加工件选用环保型 ABS 材料,符合 REACH 标准,可回收再利用。医疗器械精密加工件设计

医疗器械精密加工件设计,加工件

医疗微创手术器械的注塑加工件,需符合 ISO 10993 生物相容性标准,选用聚醚醚酮(PEEK)与抑菌银离子复合注塑。将 0.5% 纳米银离子(粒径 50nm)均匀混入 PEEK 粒子,通过高温注塑(温度 400℃,模具温度 180℃)成型,制得抑菌率≥99% 的器械部件。加工中采用微注塑技术,在 0.3mm 薄壁结构上成型精度达 ±5μm 的齿状结构,表面经等离子体处理(功率 100W,时间 30s)后粗糙度 Ra≤0.2μm,减少组织粘连风险。成品经 1000 次高压蒸汽灭菌(134℃,20min)后,力学性能保留率≥95%,且细胞毒性评级为 0 级,满足微创手术器械的重复使用要求。不锈钢冲压加工件表面处理注塑加工件的定位柱高度公差 ±0.1mm,确保多部件装配同轴度。

医疗器械精密加工件设计,加工件

光伏逆变器中的绝缘加工件,需具备优异的耐候性与耐电晕性能,多采用改性聚酯薄膜复合绝缘材料。通过热压粘合工艺将三层材料复合(薄膜 + 纤维纸 + 薄膜),热压温度控制在 180 - 200℃,压力 8 - 10MPa,保压时间 30 分钟,使层间剥离强度≥15N/cm。加工后的电容隔板需通过 1000 小时 Damp Heat(85℃,85% RH)测试,介电强度下降率≤10%,同时在高频脉冲(10kHz,1000V)条件下,电晕起始电压≥1.2 倍额定电压,确保在光伏电站 25 年的运营周期内,绝缘性能稳定可靠,减少设备故障停机时间。

半导体晶圆传输注塑加工件采用静电耗散型 POM(聚甲醛)与碳纳米管复合注塑。添加 5% 碳纳米管(直径 10nm)通过双螺杆挤出(温度 200℃,转速 300rpm)实现均匀分散,使表面电阻稳定在 10⁶-10⁹Ω,摩擦起电量≤0.1μC。加工时运用微注塑技术,在 1mm 厚载具上成型精度 ±3μm 的 V 型槽,槽面经等离子体刻蚀(功率 150W,时间 60s)后粗糙度 Ra≤0.05μm,避免晶圆划伤。成品在 Class 10 洁净室环境中,粒子脱落量≤0.05 个 / 小时,且通过 1000 次晶圆传输循环测试,接触电阻波动≤3mΩ,满足 12 英寸晶圆的高精度、低静电传输要求。绝缘加工件通过真空浸漆处理,内部空隙填充充分,绝缘性能更优异。

医疗器械精密加工件设计,加工件

光伏逆变器散热注塑加工件,采用聚碳酸酯(PC)与纳米氮化铝(AlN)复合注塑。将 40% AlN 填料(粒径 2μm)与 PC 粒子在往复式螺杆挤出机(温度 280℃,转速 300rpm)中混炼,制得热导率 2.5W/(m・K) 的散热片材料。加工时运用模内冷却技术(模具内置微通道,冷却液温度 20℃),在 0.5mm 薄壁上成型高度 10mm 的散热齿,齿间距精度 ±0.1mm。成品经 85℃、85% RH 湿热测试 1000 小时后,热导率下降率≤5%,且在 100℃高温下拉伸强度≥60MPa,满足逆变器功率器件的高效散热与绝缘需求。选用耐候性绝缘材料的加工件,可在户外恶劣环境中可靠工作。高精度加工件抗冲击测试标准

这款注塑件表面光洁度达 Ra1.6,无需二次打磨,适用于外观件批量生产。医疗器械精密加工件设计

半导体刻蚀腔体注塑加工件采用全氟烷氧基树脂(PFA)与二硫化钼纳米管复合注塑,添加 3% 二硫化钼纳米管(直径 20nm,长度 1μm)通过超临界流体混合(CO₂压力 10MPa,温度 80℃)均匀分散,使材料表面摩擦系数降至 0.08,抗等离子体刻蚀速率≤0.05μm/h。加工时运用精密挤出成型(温度 380℃,口模温度 360℃),在 0.5mm 薄壁部件上成型精度 ±5μm 的气流槽,槽面经电子束抛光后粗糙度 Ra≤0.02μm,减少刻蚀产物沉积。成品在 CF₄/O₂等离子体环境(功率 1000W,气压 10Pa)中使用 1000 小时后,表面腐蚀量≤0.1μm,且颗粒脱落量≤0.01 个 / 片,满足高级半导体刻蚀设备的高纯度与长寿命需求。医疗器械精密加工件设计

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